9楼: Originally posted by abraca at 2014-05-17 14:45:13
没那么麻烦。
1脱油，用丙酮氯仿之类超声十分钟，两次。
2硫酸双氧水80度十分钟。
3氢氟酸稀释液漂洗1分钟。
4氮气吹干，即用。

16楼: Originally posted by baoer410 at 2014-05-17 16:15:52
不是泡泡那么简单，前期你怎么处理，HF浓度多少，刻蚀多久。我做的时候水滴在硅片表面形成球形，接触角不会小于90度的。...

15楼: Originally posted by yswyx at 2014-05-17 16:07:26
你买回来的硅片表面本身就是纳米级的粗糙度。国产硅片Ra是1~2nm，进口硅片一般是小于1nm。
单晶硅本身是疏水的，但是会有原生氧化层，所以会表现的亲水。用HF腐蚀掉原生氧化层，会表现出一定的疏水，但是在空气中 ...