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ddddppp123

新虫 (初入文坛)

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9楼: Originally posted by abraca at 2014-05-17 14:45:13
没那么麻烦。
1脱油,用丙酮氯仿之类超声十分钟,两次。
2硫酸双氧水80度十分钟。
3氢氟酸稀释液漂洗1分钟。
4氮气吹干,即用。

您好,我用了您的方法,HF浓度40%,泡了5min,接触角大概79°,到不了90°啊,是哪里不对吗
31楼2017-01-04 10:43:44
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ddddppp123

新虫 (初入文坛)

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16楼: Originally posted by baoer410 at 2014-05-17 16:15:52
不是泡泡那么简单,前期你怎么处理,HF浓度多少,刻蚀多久。我做的时候水滴在硅片表面形成球形,接触角不会小于90度的。...

您好,请问您具体怎么做的呀,我HF浓度40%,泡了5min,接触角79°
32楼2017-01-04 10:47:38
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到时候

银虫 (小有名气)

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15楼: Originally posted by yswyx at 2014-05-17 16:07:26
你买回来的硅片表面本身就是纳米级的粗糙度。国产硅片Ra是1~2nm,进口硅片一般是小于1nm。
单晶硅本身是疏水的,但是会有原生氧化层,所以会表现的亲水。用HF腐蚀掉原生氧化层,会表现出一定的疏水,但是在空气中 ...

您好,请问您提到的半导体行业常用的偶联剂有哪些呢?HMDS我看网上说的毒性较大,这个怎么处理呢?
小楼一夜听春雨
33楼2018-03-19 14:28:40
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