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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 合成表征 » 如何除去二氧化硅表面的硅烷基
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heteropoly

金虫 (小有名气)

[求助] 如何除去二氧化硅表面的硅烷基 已有1人参与

用六甲基二硅胺（HMDS）与二氧化硅表面的羟基反应从而引入硅烷基，用什么方法可以将这个生成的硅烷基除去呢？除了UV/ozone还有更好的方法吗？
多谢！
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兼容并蓄，乃成大家！
1楼 2014-05-15 06:52:59
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heteropoly

金虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by wzhzs111 at 2015-11-13 10:25:02
请问你的hmds怎么修饰的?我想修饰sio2,谢谢

HMDSh和SIO2表面的羟基很容易反应，我的例子是在把这两种物质都加进甲苯，室温搅拌过夜就好了。
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兼容并蓄，乃成大家！
4楼2015-11-17 18:29:31
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眼镜片1

银虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
heteropoly: 金币+3, ★★★很有帮助, 多谢。有化学方法可以去除硅烷基吗？ 2014-05-17 02:47:52
高温 烧到五六百度
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2楼2014-05-15 07:51:26
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wzhzs111

木虫 (小有名气)
请问你的hmds怎么修饰的?我想修饰sio2,谢谢
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加油
3楼2015-11-13 10:25:02
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wzhzs111

木虫 (小有名气)
谢谢

发自小木虫Android客户端
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加油
5楼2015-11-17 21:04:58
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