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合成介孔纳米二氧化硅（MSN）除去模板CTAB是什么机理
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我用的是如下配方合成MCM-41的，CTAB 1g，水 480mL，2M NaOH,TEOS 5 mL 合成方法为先将CTAB加入水中，升温至80℃，然后加入NaOH,强烈搅拌10-20分钟，然后逐滴加入TEOS，在80℃下反应两个小时，冷却后通过抽滤得到的固体。常见的除去模板的方法有在浓盐酸的甲醇溶液中回流、在硝酸铵的甲醇溶液中回流、焙烧三种方法.有哪位大侠做过同样的实验，想请教一下前两种方法的机理是什么，还有别的方法可以除去模板么，先在此谢过了 |
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