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众里寻她千百度

铁虫 (小有名气)

[求助] 合成介孔纳米二氧化硅(MSN)除去模板CTAB是什么机理

我用的是如下配方合成MCM-41的,CTAB 1g,水 480mL,2M NaOH,TEOS 5 mL
合成方法为先将CTAB加入水中,升温至80℃,然后加入NaOH,强烈搅拌10-20分钟,然后逐滴加入TEOS,在80℃下反应两个小时,冷却后通过抽滤得到的固体。常见的除去模板的方法有在浓盐酸的甲醇溶液中回流、在硝酸铵的甲醇溶液中回流、焙烧三种方法.有哪位大侠做过同样的实验,想请教一下前两种方法的机理是什么,还有别的方法可以除去模板么,先在此谢过了
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紫色桔梗

银虫 (小有名气)

楼主,你这方案是哪里找到的
5楼2012-10-15 09:19:02
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众里寻她千百度

铁虫 (小有名气)

大家帮忙想想办法啊
2楼2011-04-27 12:50:34
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zvgy123

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

我这里用的就是焙烧了,也还比较简单啊。回流的操作用的是酸啊,可以和碱性的物质反应嘛~!就把你的CTBA给去除了啊~!
3楼2011-04-29 14:57:20
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zvgy123

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

补充一下,老师给的方案里,醇+酸:无水乙醇+浓盐酸。这样就可以去除表面活性剂了~!
4楼2011-04-29 15:01:35
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