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介孔二氧化硅空心球的分散问题。。。。
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简单介绍一下我的合成方法：CTAB做致孔剂，s-SiO2做模板，碳酸钠刻蚀； 其实我看文献上的TEM和SEM，都有刻蚀后团聚、连接的问题；可是他们都对分散性的问题避开不谈，只是展示分散性比较好的图， 真是纠结，有哪位指一两点啊！！？？？ 谢谢！！！ |
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2014-05-08 19:33
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