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介孔二氧化硅空心球的分散问题。。。。
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简单介绍一下我的合成方法:CTAB做致孔剂,s-SiO2做模板,碳酸钠刻蚀; 其实我看文献上的TEM和SEM,都有刻蚀后团聚、连接的问题;可是他们都对分散性的问题避开不谈,只是展示分散性比较好的图, 真是纠结,有哪位指一两点啊!!??? 谢谢!!! |
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1 [ 发自小木虫客户端 ]
2014-05-08 19:33
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tzynew4楼
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kingki8楼
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2014-05-08 20:41
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祝福~
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