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zzjunqi

铁虫 (小有名气)

[求助] 半导体光催化 已有1人参与

我半个月前做了一批样品,TiO2(电化学)+CuO(磁控溅射镀膜)+Au,刚做完时测了光催化,结果挺好的,可是现在放了半个月后再测的结果就很差了,几乎无降解。请问这是什么原因呢?是样品表面脏了影响结果了吗?如果清洗的话要怎样清洗呢?谢谢各位!!
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zzjunqi

铁虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by 刺客yl at 2014-04-16 13:31:22
表面钝化了呗,长时间放置肯定就这样。现用现做才行。

其他的半导体材料也会这样吗?比说CdTe,P-Si
3楼2014-04-16 14:57:28
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刺客yl

铁虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
表面钝化了呗,长时间放置肯定就这样。现用现做才行。
2楼2014-04-16 13:31:22
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刺客yl

铁虫 (正式写手)

引用回帖:
3楼: Originally posted by zzjunqi at 2014-04-16 14:57:28
其他的半导体材料也会这样吗?比说CdTe,P-Si...

光催化最怕表面钝化。我以前做的是锆酸钐和二氧化钛的光催化。催化剂需要的表面活性特别高,陈化或者表面中毒,都会严重影响催化效率
4楼2014-04-17 08:47:53
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zzjunqi

铁虫 (小有名气)

引用回帖:
4楼: Originally posted by 刺客yl at 2014-04-17 08:47:53
光催化最怕表面钝化。我以前做的是锆酸钐和二氧化钛的光催化。催化剂需要的表面活性特别高,陈化或者表面中毒,都会严重影响催化效率...

谢谢!
5楼2014-04-17 14:40:54
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