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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 材料物理 » 半导体光催化
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zzjunqi

铁虫 (小有名气)

[求助] 半导体光催化 已有1人参与

我半个月前做了一批样品，TiO2（电化学）+CuO（磁控溅射镀膜）+Au，刚做完时测了光催化，结果挺好的，可是现在放了半个月后再测的结果就很差了，几乎无降解。请问这是什么原因呢？是样品表面脏了影响结果了吗？如果清洗的话要怎样清洗呢？谢谢各位！！
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1楼 2014-04-15 19:23:40
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刺客yl

铁虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
表面钝化了呗，长时间放置肯定就这样。现用现做才行。
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2楼2014-04-16 13:31:22
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zzjunqi

铁虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by 刺客yl at 2014-04-16 13:31:22
表面钝化了呗，长时间放置肯定就这样。现用现做才行。

其他的半导体材料也会这样吗？比说CdTe，P-Si
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3楼2014-04-16 14:57:28
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刺客yl

铁虫 (正式写手)
引用回帖:
3楼: Originally posted by zzjunqi at 2014-04-16 14:57:28
其他的半导体材料也会这样吗？比说CdTe，P-Si...

光催化最怕表面钝化。我以前做的是锆酸钐和二氧化钛的光催化。催化剂需要的表面活性特别高，陈化或者表面中毒，都会严重影响催化效率
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4楼2014-04-17 08:47:53
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zzjunqi

铁虫 (小有名气)
引用回帖:
4楼: Originally posted by 刺客yl at 2014-04-17 08:47:53
光催化最怕表面钝化。我以前做的是锆酸钐和二氧化钛的光催化。催化剂需要的表面活性特别高，陈化或者表面中毒，都会严重影响催化效率...

谢谢！
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5楼2014-04-17 14:40:54
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