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半导体光催化
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zzjunqi
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半导体光催化
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我半个月前做了一批样品,TiO2(电化学)+CuO(磁控溅射镀膜)+Au,刚做完时测了光催化,结果挺好的,可是现在放了半个月后再测的结果就很差了,几乎无降解。请问这是什么原因呢?是样品表面脏了影响结果了吗?如果清洗的话要怎样清洗呢?谢谢各位!!
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1楼
2014-04-15 19:23:40
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【答案】应助回帖
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表面钝化了呗,长时间放置肯定就这样。现用现做才行。
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2014-04-16 13:31:22
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2楼
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Originally posted by
刺客yl
at 2014-04-16 13:31:22
表面钝化了呗,长时间放置肯定就这样。现用现做才行。
其他的半导体材料也会这样吗?比说CdTe,P-Si
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3楼
2014-04-16 14:57:28
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3楼
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Originally posted by
zzjunqi
at 2014-04-16 14:57:28
其他的半导体材料也会这样吗?比说CdTe,P-Si...
光催化最怕表面钝化。我以前做的是锆酸钐和二氧化钛的光催化。催化剂需要的表面活性特别高,陈化或者表面中毒,都会严重影响催化效率
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4楼
2014-04-17 08:47:53
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4楼
:
Originally posted by
刺客yl
at 2014-04-17 08:47:53
光催化最怕表面钝化。我以前做的是锆酸钐和二氧化钛的光催化。催化剂需要的表面活性特别高,陈化或者表面中毒,都会严重影响催化效率...
谢谢!
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5楼
2014-04-17 14:40:54
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