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光刻工艺优化
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spiderman504
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光刻工艺优化
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光刻胶EPG516 正胶
转速:先500r/min,后2650r/min 3um
图中前烘温度75、80度,时间60s.
该光刻胶没有后烘工艺,曝光量100mJ/cm2,接触式曝光,显影时间60s.
图中台阶的倒角我做的最好也就65度左右,改过温度,时间,曝光量,其中显影时间是以显影完全为准,没有考虑时间。结果都不太理想,还应该朝哪方面优化。
516 75.jpg
516 80-4.jpg
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1楼
2014-04-07 22:29:23
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【答案】应助回帖
不可能吧 我用的EPG518 比你的略厚的,前烘都是100度的
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7楼
2014-05-04 16:49:57
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2014-04-21 16:50:16
永光的胶确实不好用,建议别调了,这种黑边的胶,工艺很麻烦。
建议用AZ9912或者国产i线胶(锐材的i1000)试试,厚度不一定有这么厚,但垂直度肯定没问题。
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2楼
2014-04-18 18:02:18
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spiderman504
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2楼
:
Originally posted by
yswyx
at 2014-04-18 18:02:18
永光的胶确实不好用,建议别调了,这种黑边的胶,工艺很麻烦。
建议用AZ9912或者国产i线胶(锐材的i1000)试试,厚度不一定有这么厚,但垂直度肯定没问题。
好忧伤,本科毕设让做这个,怎么破?
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由于您的签名过于个性,小木虫暂时无法显示。。。
3楼
2014-04-21 16:50:02
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3楼
:
Originally posted by
spiderman504
at 2014-04-21 16:50:02
好忧伤,本科毕设让做这个,怎么破?...
一般的胶很少有这么低的前烘温度,建议你用100度试试不同时间下的光刻。
这样胶会烘的比较硬,光刻时间会随之增长,显影时间也会略长。
试试看吧……
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4楼
2014-04-22 14:08:47
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