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spiderman504

金虫 (小有名气)

[求助] 光刻工艺优化 已有3人参与

光刻胶EPG516 正胶
转速:先500r/min,后2650r/min           3um
图中前烘温度75、80度,时间60s.
该光刻胶没有后烘工艺,曝光量100mJ/cm2,接触式曝光,显影时间60s.
图中台阶的倒角我做的最好也就65度左右,改过温度,时间,曝光量,其中显影时间是以显影完全为准,没有考虑时间。结果都不太理想,还应该朝哪方面优化。

光刻工艺优化
516 75.jpg


光刻工艺优化-1
516 80-4.jpg
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spiderman504

金虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2014-04-18 18:02:18
永光的胶确实不好用,建议别调了,这种黑边的胶,工艺很麻烦。
建议用AZ9912或者国产i线胶(锐材的i1000)试试,厚度不一定有这么厚,但垂直度肯定没问题。

好忧伤,本科毕设让做这个,怎么破?
由于您的签名过于个性,小木虫暂时无法显示。。。
3楼2014-04-21 16:50:02
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


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★ ★
spiderman504: 金币+2, 有帮助 2014-04-21 16:50:16
永光的胶确实不好用,建议别调了,这种黑边的胶,工艺很麻烦。
建议用AZ9912或者国产i线胶(锐材的i1000)试试,厚度不一定有这么厚,但垂直度肯定没问题。
2楼2014-04-18 18:02:18
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


引用回帖:
3楼: Originally posted by spiderman504 at 2014-04-21 16:50:02
好忧伤,本科毕设让做这个,怎么破?...

一般的胶很少有这么低的前烘温度,建议你用100度试试不同时间下的光刻。
这样胶会烘的比较硬,光刻时间会随之增长,显影时间也会略长。
试试看吧……
4楼2014-04-22 14:08:47
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spiderman504

金虫 (小有名气)

引用回帖:
4楼: Originally posted by yswyx at 2014-04-22 14:08:47
一般的胶很少有这么低的前烘温度,建议你用100度试试不同时间下的光刻。
这样胶会烘的比较硬,光刻时间会随之增长,显影时间也会略长。
试试看吧……...

100、110度都做过,显影3分钟都显不掉。
由于您的签名过于个性,小木虫暂时无法显示。。。
5楼2014-04-22 23:14:04
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