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PECVD制备二氧化硅有大量粉尘生成 已有2人参与
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| 用笑气和氩气稀释的硅烷制备氧化硅，有大量粉尘生成是为什么？ |
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4楼2014-04-07 13:41:19
yswyx 
专家顾问 (著名写手)
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- 贵宾: 0.204
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- 注册: 2007-10-30
- 性别: GG
- 专业: 半导体微纳机电器件与系统
- 管辖: 微米和纳米
2楼2014-03-25 17:48:26
3楼2014-04-07 09:03:33
5楼2014-04-13 17:30:21
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