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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » PECVD制备二氧化硅有大量粉尘生成
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ytusnow

新虫 (小有名气)

[求助] PECVD制备二氧化硅有大量粉尘生成 已有2人参与

用笑气和氩气稀释的硅烷制备氧化硅，有大量粉尘生成是为什么？
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1楼 2014-03-25 15:38:57
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yswyx

专家顾问 (著名写手)
感谢参与，应助指数 +1
chemlh: 应助指数-1 2014-03-27 16:48:11
之前做过多晶硅？
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2楼2014-03-25 17:48:26
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ina_liu

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

利用率低，有大量中间产物和剩余反应物为白色

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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3楼2014-04-07 09:03:33
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ytusnow

新虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by ina_liu at 2014-04-07 09:03:33
利用率低，有大量中间产物和剩余反应物为白色

有时候生成一层很薄的透明的白色物质，用手一擦就没有了，就是不长薄膜，是功率太大还是和压强有关系？
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4楼2014-04-07 13:41:19
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ina_liu

金虫 (小有名气)
引用回帖:
4楼: Originally posted by ytusnow at 2014-04-07 13:41:19
有时候生成一层很薄的透明的白色物质，用手一擦就没有了，就是不长薄膜，是功率太大还是和压强有关系？...

白色透明的应该是胶体，胶体就是聚合物了，我用CVD，没有用过PECVD，所以不知道功率和压强的影响
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5楼2014-04-13 17:30:21
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