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hittyk

金虫 (正式写手)

[求助] HF酸腐蚀二氧化硅的最佳配比已有2人参与

想用HF酸腐蚀二氧化硅，请问是浓度越大越好么？有没有最佳配比啊？
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静以修身，俭以养德
1楼2014-03-11 15:06:30
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redmast

金虫 (正式写手)
引用回帖:
4楼: Originally posted by hittyk at 2014-03-11 19:43:47
我是单纯的想用HF酸将SOI的埋氧层腐蚀掉。...

这就好办了，那你就用低浓度的，高浓度的很危险。用5%吧
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7楼2014-03-12 09:38:29
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橡胶人

荣誉版主 (文坛精英)

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【答案】应助回帖

★
感谢参与，应助指数 +1
sddtc888: 金币+1, 感谢应助，欢迎常来！ 2014-03-11 18:36:22
推荐：http://www.baidu.com/link?url=hz ... okIckJLB5M9sVw1STSO
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2楼2014-03-11 15:59:46
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redmast

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★
感谢参与，应助指数 +1
sddtc888: 金币+1, 感谢应助，欢迎常来！ 2014-03-11 18:36:12
这个得看你自己刻二氧化硅干嘛了，要光滑的表面还是粗糙的表面？
当然不是浓度越大越好，浓度越大刻蚀速度越快，但是要注意，氢氟酸有剧毒，浓度高了会挥发，一定要做好防护。
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3楼2014-03-11 18:21:31
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hittyk

金虫 (正式写手)
引用回帖:
3楼: Originally posted by redmast at 2014-03-11 18:21:31
这个得看你自己刻二氧化硅干嘛了，要光滑的表面还是粗糙的表面？
当然不是浓度越大越好，浓度越大刻蚀速度越快，但是要注意，氢氟酸有剧毒，浓度高了会挥发，一定要做好防护。

我是单纯的想用HF酸将SOI的埋氧层腐蚀掉。
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静以修身，俭以养德
4楼2014-03-11 19:43:47
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