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电化学腐蚀铜钛溅射薄膜中的钛
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电化学腐蚀铜钛溅射薄膜中的钛
通过磁控溅射的方法在铜箔基体上沉积了铜钛合金薄膜,想要用电化学的方法腐蚀掉其中的钛,得到多孔铜结构。看文献中说0.1M NaCIO4 + 0.1M NaF是腐蚀Ti的电解质,但是不知道怎样选择腐蚀电位,请各位指教啊~谢谢
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2014-03-10 09:06:04
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