| 查看: 2034 | 回复: 6 | |||
[求助]
遇到一难题，光刻过程中的精度问题 已有2人参与
|
|
本人现在从事非晶薄膜研究，现希望在薄膜表面选择性的涂覆光刻胶，即在特定的地方有光刻胶，在其他的地方没有。这就需要在曝光过程中，使掩膜板上透光的区域精确对齐薄膜上需要覆光刻胶的区域（我用的是负胶）。需要涂覆光刻胶的区域大约200微米。在光刻过程中，薄膜置于掩膜板下方，中间隔了2到3厘米，使得对齐很难进行。 请教各位有没有好一点的方法能实现对齐。 |
回复此楼» 猜你喜欢
稀土发光分析｜核壳结构｜寿命拟合
已经有13人回复
-
稀土发光分析｜核壳结构｜寿命拟合
已经有6人回复
-
金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有118人回复
-
稀土发光分析｜核壳结构｜寿命拟合
已经有0人回复
-
稀土发光分析｜核壳结构｜寿命拟合
已经有0人回复
-
26 届青岛大学纺织化学与染整工程硕士（液体纳米分散染料方向）求申博建议
已经有4人回复
-
26 届青岛大学纺织化学与染整工程（液体纳米分散染料）求浙理工纺织 / 材料博导名额
已经有1人回复
-
敢问Acta Pharmaceutica Sinica B with Editor 三周了，能是什么情况？
已经有0人回复
-
求助 CeO2 Fe3O4 Cu2S CoFe2O4 标准卡 Jade 导出的数据
已经有0人回复
-
招生--河北大学26年秋季入学博士
已经有1人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
- 负胶光刻做倒梯形的程度与曝光时间有什么关系？？
已经有10人回复
2楼2014-02-27 13:06:54
3楼2014-03-10 21:55:57
蚊子咬了猪猪
铜虫 (小有名气)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 251.9
- 散金: 20
- 帖子: 72
- 在线: 17.6小时
- 虫号: 3935855
- 注册: 2015-06-23
- 专业: 凝聚态物性 II ：电子结构
4楼2016-12-11 13:32:08
5楼2016-12-11 14:20:38
|
本帖内容被屏蔽 |
6楼2016-12-11 16:21:01
yswyx 
专家顾问 (著名写手)
-
专家经验: +651 - MN-EPI: 8
- 应助: 807 (博后)
- 贵宾: 0.204
- 金币: 2618.9
- 散金: 6018
- 红花: 112
- 帖子: 2705
- 在线: 577.8小时
- 虫号: 446878
- 注册: 2007-10-30
- 性别: GG
- 专业: 半导体微纳机电器件与系统
- 管辖: 微米和纳米
7楼2017-01-22 15:19:51