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遇到一难题，光刻过程中的精度问题 已有2人参与
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本人现在从事非晶薄膜研究，现希望在薄膜表面选择性的涂覆光刻胶，即在特定的地方有光刻胶，在其他的地方没有。这就需要在曝光过程中，使掩膜板上透光的区域精确对齐薄膜上需要覆光刻胶的区域（我用的是负胶）。需要涂覆光刻胶的区域大约200微米。在光刻过程中，薄膜置于掩膜板下方，中间隔了2到3厘米，使得对齐很难进行。 请教各位有没有好一点的方法能实现对齐。 |
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