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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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Chen_Terry

新虫 (初入文坛)

[求助] 遇到一难题,光刻过程中的精度问题 已有2人参与

本人现在从事非晶薄膜研究,现希望在薄膜表面选择性的涂覆光刻胶,即在特定的地方有光刻胶,在其他的地方没有。这就需要在曝光过程中,使掩膜板上透光的区域精确对齐薄膜上需要覆光刻胶的区域(我用的是负胶)。需要涂覆光刻胶的区域大约200微米。在光刻过程中,薄膜置于掩膜板下方,中间隔了2到3厘米,使得对齐很难进行。
  请教各位有没有好一点的方法能实现对齐。
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科了个研

铁虫 (小有名气)

5楼2016-12-11 14:20:38
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wxa616

银虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
为什么中间要隔2到3厘米呢?  隔着么多就算对齐了曝光出来的图形精度会非常低。
无咎无誉
2楼2014-02-27 13:06:54
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lixbreeze

银虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

为什么不用接触式曝光了?精度会高很多
3楼2014-03-10 21:55:57
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蚊子咬了猪猪

铜虫 (小有名气)

请问你是如何解决对齐或者说无缝对接这种问题的呢?

发自小木虫Android客户端
4楼2016-12-11 13:32:08
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