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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 遇到一难题，光刻过程中的精度问题
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Chen_Terry

新虫 (初入文坛)

[求助] 遇到一难题，光刻过程中的精度问题 已有2人参与

本人现在从事非晶薄膜研究，现希望在薄膜表面选择性的涂覆光刻胶，即在特定的地方有光刻胶，在其他的地方没有。这就需要在曝光过程中，使掩膜板上透光的区域精确对齐薄膜上需要覆光刻胶的区域（我用的是负胶）。需要涂覆光刻胶的区域大约200微米。在光刻过程中，薄膜置于掩膜板下方，中间隔了2到3厘米，使得对齐很难进行。
  请教各位有没有好一点的方法能实现对齐。
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1楼 2014-02-27 10:03:16
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yswyx

专家顾问 (著名写手)
找一个硅片，把薄膜平整的贴在硅片上。找一台有对准功能的光刻机，对准，曝光，显影，搞定。
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7楼2017-01-22 15:19:51
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wxa616

银虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
为什么中间要隔2到3厘米呢？  隔着么多就算对齐了曝光出来的图形精度会非常低。
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无咎无誉
2楼2014-02-27 13:06:54
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lixbreeze

银虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

为什么不用接触式曝光了？精度会高很多
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3楼2014-03-10 21:55:57
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蚊子咬了猪猪

铜虫 (小有名气)
请问你是如何解决对齐或者说无缝对接这种问题的呢？

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4楼2016-12-11 13:32:08
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