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纳米制备艺术（16）：硅尖列阵制备工艺（RIE on SiO2层） 已有3人参与
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本木虫郑重声明：本人在小木虫网站上展示的所有成果都是Giantslug本人自己的工作。 第二步：用光刻胶立柱为掩膜，在等离子体下对SiO2薄膜腐蚀，去掉SiO2层。形成SiO2+剩余光刻胶的掩膜。照片拍得不够清晰。SiO2薄膜不很清楚。 |
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 图解纳米科技与应用 |
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windyswust
木虫 (著名写手)
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