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纳米制备艺术(16):硅尖列阵制备工艺(RIE on SiO2层) 已有3人参与
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本木虫郑重声明:本人在小木虫网站上展示的所有成果都是Giantslug本人自己的工作。 第二步:用光刻胶立柱为掩膜,在等离子体下对SiO2薄膜腐蚀,去掉SiO2层。形成SiO2+剩余光刻胶的掩膜。照片拍得不够清晰。SiO2薄膜不很清楚。 |
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profzhou
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