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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 无机非金属 » 交流探讨 » 磁控溅射中加氢会产生H+离子还是H-离子？
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Tavano

铁杆木虫 (正式写手)

[交流] 磁控溅射中加氢会产生H+离子还是H-离子？

在磁控溅射制备很多薄膜时，都会加入一些氢气。氢气在辉光放电中会产生H+离子还是H-离子呢？

H的电离能为13.6eV，电子亲和能为-1.1eV，按说应该主要生成H-离子。但查了一些文献后似乎没得到什么明确的答案。有研究过这个问题的兄弟没？发表下看法吧。
[search]磁控溅射 氢[/search]
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1楼 2008-01-08 10:38:49
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wesley

基片上加偏压吗，还是用的射频电源，

基片加射频电源会产生一个负的自偏压

如果加直流负偏压，可能可以增加H含量，

H＋受到负偏压吸引

如果加直流正偏压，情况很难说，主要是我没有用过：）

按照我的理解，你的文献中提到的是在高离化率和低电子能量情况下才出现H—离子，这种情况在磁控溅射中很难出现，磁控溅射的等离子体属于冷等离子体，离化率也不会高。

[ Last edited by wesley on 2008-1-11 at 17:16 ]
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11楼2008-01-11 17:12:20
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渔翁860

金虫 (正式写手)
我用的是氩气，不知道加氢是怎样。等我找到了再来
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2楼2008-01-10 20:39:42
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miloyy

木虫 (正式写手)
没想过这个问题，按理都是H+把，这个电子亲和能是什么意思，为负值？
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3楼2008-01-10 23:45:43
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anselnew

木虫 (正式写手)
我用的是氩气，不知道加氢是怎样。估计以后用H2的可能性极小
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铁电材料QQ群：16441273 欢迎做铁电材料的虫子加入
4楼2008-01-11 01:51:36
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