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su736808421木虫 (小有名气)
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中频反应溅射SiO2膜与直流溅射ITO膜的在线联镀
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简要介绍 硅靶反应磁控溅射SiO2薄膜工艺具有沉积速率高、膜层质量好、设备简单和运行成本低等优点,已经在生产中得到应用。成品ITO玻璃是在原片玻璃上镀制SiO2和ITO两层膜。ITO透明导电玻璃生产中,普遍应用ITO陶瓷靶直流溅射工艺沉积ITO膜,如果SiO2 膜应用硅靶反应磁控溅射工艺,人们会提出,在ITO透明导电玻璃生产线上,这两种工艺是否可以在线联用以及如何实现联用的问题。本文作者在开发成功硅靶中频反应磁控溅射SiO2工艺后,通过设备改造和实验研究解决了这些问题。在线实现SiO2和ITO膜联镀,关键是SiO2的制备工艺不是孤立地镀制SiO2膜,而应该把SiO2膜作为ITO玻璃中的一部分,把SiO2工艺作为整个ITO玻璃工艺的一部分。因此要研究增加SiO2镀膜工序对ITO工艺的影响,研究SiO2膜和ITO膜在同一生产线中连续镀膜对ITO玻璃整体性能的影响。 [ Last edited by su736808421 on 2013-12-14 at 17:56 ] |
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2013-12-12 11:58:21, 93.35 K
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0.8
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2楼2013-12-12 12:56:53
