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maximus1214银虫 (初入文坛)
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EBL显影之后做了SEM发现问题
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| 我在EBL（PMMA A4）显影之后，做了一下SEM，看了几个图形区域。结束之后发现一些图形区域中图形还存在，但是以图形为中心，出现一个矩形框把图形包围起来，矩形中的胶就像被刻蚀掉了一样，求大神解释一下，这是为什么？谢谢！ |
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其实就是停留太久了，如果你停留再久点，当你移走SEM视场时，会发现原来视场左上角的位置已经被beam烧出一个点了，最好的方法就是做很多组重复图形，调好参数，显影后观察只用观察其中的一两组就够，如果所观察的都没问题，基本能够确定其他的图形也没什么大问题（就算有也是个别问题）。 还有，这个不是针对你显影不显影的问题，你显影完后PMMA在没被曝光的地方照样是大分子相互连接，当你观察图形时，beam照到这些地方，大分子还是断裂变成小分子，和你第一次曝光的过程是一样的。并且，我们有时为了看套刻是否准确，会在一层胶上连做两次曝光，两次显影，效果也不错，就是这个意思。希望对楼主有所帮助！ |
14楼2014-01-17 13:52:39
yswyx 
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7楼2013-11-22 17:35:36
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2楼2013-11-21 17:17:33
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10楼2013-11-24 09:24:47
