| 查看: 2490 | 回复: 16 | |||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | |||
maximus1214银虫 (初入文坛)
|
[求助]
EBL显影之后做了SEM发现问题
|
||
| 我在EBL（PMMA A4）显影之后，做了一下SEM，看了几个图形区域。结束之后发现一些图形区域中图形还存在，但是以图形为中心，出现一个矩形框把图形包围起来，矩形中的胶就像被刻蚀掉了一样，求大神解释一下，这是为什么？谢谢！ |
回复此楼» 猜你喜欢
金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有168人回复
fyl1989
金虫 (正式写手)
- 应助: 3 (幼儿园)
- 金币: 1194.1
- 散金: 26
- 红花: 10
- 帖子: 507
- 在线: 151.1小时
- 虫号: 2245000
- 注册: 2013-01-16
- 性别: GG
- 专业: 半导体晶体与薄膜材料
|
其实就是停留太久了，如果你停留再久点，当你移走SEM视场时，会发现原来视场左上角的位置已经被beam烧出一个点了，最好的方法就是做很多组重复图形，调好参数，显影后观察只用观察其中的一两组就够，如果所观察的都没问题，基本能够确定其他的图形也没什么大问题（就算有也是个别问题）。 还有，这个不是针对你显影不显影的问题，你显影完后PMMA在没被曝光的地方照样是大分子相互连接，当你观察图形时，beam照到这些地方，大分子还是断裂变成小分子，和你第一次曝光的过程是一样的。并且，我们有时为了看套刻是否准确，会在一层胶上连做两次曝光，两次显影，效果也不错，就是这个意思。希望对楼主有所帮助！ |
14楼2014-01-17 13:52:39
yswyx 
专家顾问 (著名写手)
-
专家经验: +651 - MN-EPI: 8
- 应助: 807 (博后)
- 贵宾: 0.204
- 金币: 2618.1
- 散金: 6018
- 红花: 112
- 帖子: 2705
- 在线: 577.8小时
- 虫号: 446878
- 注册: 2007-10-30
- 性别: GG
- 专业: 半导体微纳机电器件与系统
- 管辖: 微米和纳米
3楼2013-11-22 11:43:14
maximus1214
银虫 (初入文坛)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 364.5
- 帖子: 33
- 在线: 6.8小时
- 虫号: 1720333
- 注册: 2012-03-27
- 性别: GG
- 专业: 交叉学科中的光学问题
4楼2013-11-22 14:13:27
yswyx
专家顾问 (著名写手)
-
专家经验: +651 - MN-EPI: 8
- 应助: 807 (博后)
- 贵宾: 0.204
- 金币: 2618.1
- 散金: 6018
- 红花: 112
- 帖子: 2705
- 在线: 577.8小时
- 虫号: 446878
- 注册: 2007-10-30
- 性别: GG
- 专业: 半导体微纳机电器件与系统
- 管辖: 微米和纳米
5楼2013-11-22 15:38:05