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245414315铜虫 (初入文坛)
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旋涂法制备氧化石墨烯膜的相关问题 已有1人参与
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小弟最近在用旋涂法制备氧化石墨烯膜，但是做的过程中出现了一些问题，想请教各位做过的大神，指点下小弟。 1、我将氧化石墨烯的分散液滴在Si基地上，想通过旋涂制备成膜，但是发现根本涂不上，请问这是什么原因呢，我配的分散液的浓度为1mg/ml，我应该如何解决。 2、我看了一些文献说基地要进行亲水话处理，请问若进行该处理，我应该如何操作，处理时间一般为多少合适。 最后小弟在这里谢过各位大神了，真诚希望各位大神能给小弟一点意见，小弟不胜感激。 |
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papaverme
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245414315: 金币+5, ★★★很有帮助 2013-11-07 09:21:34
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没做过GO分散液的旋涂，不了解你需要制成怎样的膜。需要多厚？你是基于什么考虑选取的分散液浓度。 以其他材料旋涂过程的经验，1mg/mL的溶液，在几千转每分的转速下，成的膜是可能薄到肉眼看不出来的（数十纳米，甚至更薄）。如果文献里就是说这么稀的分散液，你不防用AFM或光学显微镜表征一下是否有已经成膜了。 制备亲水氧化层的方法，除了浓硫酸双氧水煮，还有等离子体处理、紫外-臭氧处理。另外也有硅烷化的方法。 如果亲水化也没有什么效果，增加成膜厚度还有以下几个方法： 1 降低转速 2 在旋涂之前先将分散液滴在基板上，等待完全铺展浸润后，再逐级增加转速。 3 加热，以加快溶液的挥发。如果旋涂机不具备加热功能，也可以用热溶液试试 4 如果可能的话换成更易挥发的溶剂。 以上是基于通常旋涂法的经验判断，完全不了解GO成膜的讲究，仅供参考。不妨介绍一下旋涂法制备氧化石墨烯膜这个方法的目的，相信会有更多人给你建议。 |
7楼2013-11-04 17:28:36
baixy2010
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3楼2013-11-03 18:21:44
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