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大统一

银虫 (初入文坛)

[求助] 求教PLD制备薄膜方面的问题

最近在用PLD生长氧化物薄膜,新手遇到很多问题,长的真心纠结。按照文献中的条件来生长的,生长了一系列的样品,生长条件氧压、温度、靶间距都一样,激光能量也基本上一样,但是长出来的性质发现差别很大,重复性不好。都不知道该如何调整条件了。求教大神帮我分析分析原因。
由于多次生长之后激光已经把靶材的表面打的不平整了(购买的靶材,已有裂痕,取下来打磨平怕碎掉),现在激光打到靶材上打出来的羽辉有点歪斜,不知道是否对薄膜影响很大。
如何选择靶基间距,是不是基片和羽辉末端相切最好,和羽辉再靠近一点有什么样的影响,会变好还是变差。
不知道还有那些需要注意的因素呢,例如激光能量、频率等该如何选择?
有相关的PLD制备薄膜工艺方面的文献扔几篇过来看看。
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phyzlc

铁杆木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
大统一: 金币+15, ★★★很有帮助 2013-10-29 14:19:11
不同的设备参数肯定不一样,文献上说的温度等参数是设备的显示温度,而实际温度只能靠校准了。靶间距影响薄膜的厚度及结晶质量,不同材料的余辉大小形状不同,也不能完全靠相切来判断。要是新手,只能一步一步摸索生长条件。祝你早日成功。
2楼2013-10-28 08:39:49
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大统一

银虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by phyzlc at 2013-10-28 08:39:49
不同的设备参数肯定不一样,文献上说的温度等参数是设备的显示温度,而实际温度只能靠校准了。靶间距影响薄膜的厚度及结晶质量,不同材料的余辉大小形状不同,也不能完全靠相切来判断。要是新手,只能一步一步摸索生 ...

看来要多摸索条件。但是我几乎相同条件下生长的薄膜性质为什么重复不出来呢,重复性差这一点让我很郁闷。
3楼2013-10-28 09:39:39
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疯狂记事本

新虫 (初入文坛)

痛苦啊 我这长了一年了还是0
4楼2013-12-16 10:03:06
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