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求教PLD制备薄膜方面的问题
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最近在用PLD生长氧化物薄膜，新手遇到很多问题，长的真心纠结。按照文献中的条件来生长的，生长了一系列的样品，生长条件氧压、温度、靶间距都一样，激光能量也基本上一样，但是长出来的性质发现差别很大，重复性不好。都不知道该如何调整条件了。求教大神帮我分析分析原因。 由于多次生长之后激光已经把靶材的表面打的不平整了（购买的靶材，已有裂痕，取下来打磨平怕碎掉），现在激光打到靶材上打出来的羽辉有点歪斜，不知道是否对薄膜影响很大。 如何选择靶基间距，是不是基片和羽辉末端相切最好，和羽辉再靠近一点有什么样的影响，会变好还是变差。 不知道还有那些需要注意的因素呢，例如激光能量、频率等该如何选择？ 有相关的PLD制备薄膜工艺方面的文献扔几篇过来看看。   |
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2楼2013-10-28 08:39:49
看来要多摸索条件。但是我几乎相同条件下生长的薄膜性质为什么重复不出来呢，重复性差这一点让我很郁闷。 3楼2013-10-28 09:39:39
4楼2013-12-16 10:03:06
