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AFM硅基片清洗
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1585729300
新虫
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虫号: 1825883
[交流]
AFM硅基片清洗
我是做高分子薄膜的新手,希望请教下硅片清洗,我做的不标准,希望大家能交流下怎么清洗硅片,越细越好,在此谢谢大家了。
我一般用的是,先用丙酮超声,把主要的聚合物残余清洗掉,然后用水冲一下,放入浓硫酸在八十摄氏度条件下煮15分钟,然后超声波依次用丙酮,酒精和水清洗,清洗的时候发现丙酮和酒精不是很溶,所以可能是残余粘附在硅片上比较麻烦,可能是没洗干净,希望按照RCA吧,没做过,希望做过的能指点一二,特别是细节。这样可以安全些,谢谢啦
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1楼
2013-09-27 09:34:43
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hnppm
木虫
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★
1585729300(金币+1): 谢谢参与
我也没知道
[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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5楼
2013-09-27 11:30:09
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vmuch520
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★ ★
1585729300(金币+1): 谢谢参与
异氰酸酯: 金币+1, 感谢交流
2013-10-01 22:27:11
大概:
浓硫酸和双氧水按7:3,110度,煮半个小时。在清洗,超声。清洗的容器要干净,而且要一片一片的洗。
然后超纯水超声清洗。最后N2流吹干。
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3楼
2013-09-27 10:43:15
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vmuch520
至尊木虫
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虫号: 341865
★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
1585729300: 金币+7, thanks very much and beneifited from the files a lot,thanks again
2013-09-29 10:16:14
参考这些:
http://www.engr.uky.edu/~cmmed/CMMEDpdf/WetBench.pdf
http://www.engr.ucsb.edu/~memsuc ... PIRANHA%20CLEAN.pdf
http://nano.wustl.edu/doc/Instru ... er%20processing.pdf
http://engineering.tufts.edu/mic ... iranhaClean_SOP.pdf
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4楼
2013-09-27 10:51:26
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1585729300
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3楼
:
Originally posted by
vmuch520
at 2013-09-27 10:43:15
大概:
浓硫酸和双氧水按7:3,110度,煮半个小时。在清洗,超声。清洗的容器要干净,而且要一片一片的洗。
然后超纯水超声清洗。最后N2流吹干。
一片一片洗,我觉得很对,你们用的也是小烧杯是吧?
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6楼
2013-09-29 10:13:00
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