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shanshan1212金虫 (正式写手)
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因为学校没买权限，所以求助 Interference lithography for metal nanopattern fabrication assisted by surface plasmon polaritons reflecting image Jingquan Wang and Huimin Liang，J. Appl. Phys. 113, 233101 (2013 ） |
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4楼2013-08-31 08:10:55
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【答案】应助回帖
gruyclewee: 检索EPI+1, 感谢应助，EPI奖励。 2013-08-31 09:50:58
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Interference lithography for metal nanopattern fabrication assisted by surface plasmon polaritons reflecting image 作者: Wang, JQ (Wang, Jingquan)[ 1 ] ; Liang, HM (Liang, Huimin)[ 1 ] 来源出版物: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 卷: 113 期: 23 文献号: 233101 DOI: 10.1063/1.4811530 出版年: JUN 21 2013 被引频次: 0 (来自 Web of Science) 引用的参考文献: 21 [ 查看 Related Records ] 引证关系图 摘要: An interference lithography technique by surface-polasmon-polaritons reflecting image is suggested for fabricating large-area metal nanopatterns in this paper. This device is designed by an attenuated total reflection mode. Enhanced interference light field is formed in the resist layer coated on any thickness metal film, which will provide a nanomask on the metal film after development. If the chemical or physical etch methods are employed, the nanomask pattern can be transferred into the metal film. Calculated and analyzed results illuminate that the incident angle, the polymer interlayer thickness, and the resist layer thickness can provide large tolerances in fabrication. (C) 2013 AIP Publishing LLC. 入藏号: WOS:000321011700002 文献类型: Article 语种: English KeyWords Plus: NANOLITHOGRAPHY; NM; RESOLUTION; MODES; BEAMS 通讯作者地址: Wang, JQ (通讯作者) Hebei Univ, Coll Sci, Handan 056038, Peoples R China. 增强组织信息的名称 Hebei University 地址: [ 1 ] Hebei Univ, Coll Sci, Handan 056038, Peoples R China 增强组织信息的名称 Hebei University 电子邮件地址: jingquanwang1212@163.com 基金资助致谢: 基金资助机构 授权号 Natural Science Foundation of Hebei Province, China A2013402069 A2013402081 [显示基金资助信息][隐藏基金资助信息] We would like to thank Xue Wang, Hebei University of Engineering, for useful discussions. This work was supported by the Natural Science Foundation of Hebei Province, China (Grant Nos. A2013402069 and A2013402081). 出版商: AMER INST PHYSICS, CIRCULATION & FULFILLMENT DIV, 2 HUNTINGTON QUADRANGLE, STE 1 N O 1, MELVILLE, NY 11747-4501 USA Web of Science 类别: Physics, Applied 研究方向: Physics IDS 号: 172NT ISSN: 0021-8979 |
2楼2013-08-30 23:35:43
shanshan1212
金虫 (正式写手)
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3楼2013-08-31 07:59:30
40