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烘烤后lift-off问题
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烘烤后lift-off问题
本人新做工艺,用的是Si基,光刻后再蒸发金。由于初做工艺不懂,光刻时坚膜了,现在用丙酮lift-off,很难剥离。大家有什么好的解决办法呢?非常感谢!
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1楼
2013-08-22 10:41:31
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你这liftoff胶和金的厚度差太小了,当然说的是和基数比,毕竟金都2um呢。一般正性光刻胶即使后烘坚膜了,用丙酮也该能去掉的,最多也就加上超声。主要原因一个是坚膜时边缘坍塌造成镀的金膜把胶都覆盖了,另外一个是你的深度差太小了,这两个其实占到一个都可以liftoff的,只是你这个两个都占到了。另外 我不知道这个实验需要做2个多月吗?无非就是光刻加镀膜而已!
不过 LZ这2um的金膜我确实没镀过!
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7楼
2013-08-22 18:09:41
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qingpingzi
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光刻胶有多厚?金有多厚?
试试超声吧,如果不行就只能重新做了。
坚膜了,光刻胶边缘会有些坍塌,金属没有完全隔离开,是很难lift-off了。
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2楼
2013-08-22 11:48:41
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2楼
:
Originally posted by
qingpingzi
at 2013-08-22 11:48:41
光刻胶有多厚?金有多厚?
试试超声吧,如果不行就只能重新做了。
坚膜了,光刻胶边缘会有些坍塌,金属没有完全隔离开,是很难lift-off了。
光刻胶3um,金2um.
该工艺前面已经花了2个多月了
,重做谈何容易
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3楼
2013-08-22 12:01:15
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2楼
:
Originally posted by
qingpingzi
at 2013-08-22 11:48:41
光刻胶有多厚?金有多厚?
试试超声吧,如果不行就只能重新做了。
坚膜了,光刻胶边缘会有些坍塌,金属没有完全隔离开,是很难lift-off了。
大侠,用浓H2SO4+H2O2可以吗?
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4楼
2013-08-22 12:05:40
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