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lyln

铜虫 (小有名气)

[求助] 烘烤后lift-off问题

本人新做工艺,用的是Si基,光刻后再蒸发金。由于初做工艺不懂,光刻时坚膜了,现在用丙酮lift-off,很难剥离。大家有什么好的解决办法呢?非常感谢!
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最近很彷徨
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lyln

铜虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by qingpingzi at 2013-08-22 11:48:41
光刻胶有多厚?金有多厚?
试试超声吧,如果不行就只能重新做了。
坚膜了,光刻胶边缘会有些坍塌,金属没有完全隔离开,是很难lift-off了。

光刻胶3um,金2um.
该工艺前面已经花了2个多月了,重做谈何容易
最近很彷徨
3楼2013-08-22 12:01:15
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qingpingzi

新虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
光刻胶有多厚?金有多厚?
试试超声吧,如果不行就只能重新做了。
坚膜了,光刻胶边缘会有些坍塌,金属没有完全隔离开,是很难lift-off了。
2楼2013-08-22 11:48:41
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lyln

铜虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by qingpingzi at 2013-08-22 11:48:41
光刻胶有多厚?金有多厚?
试试超声吧,如果不行就只能重新做了。
坚膜了,光刻胶边缘会有些坍塌,金属没有完全隔离开,是很难lift-off了。

大侠,用浓H2SO4+H2O2可以吗?
最近很彷徨
4楼2013-08-22 12:05:40
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qingpingzi

新虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

引用回帖:
3楼: Originally posted by lyln at 2013-08-22 12:01:15
光刻胶3um,金2um.
该工艺前面已经花了2个多月了,重做谈何容易...

蒸发2um?我觉得即使超声也几乎不太可能了
可以重做lift-off这一步,把金腐蚀掉,重新光刻,光刻胶厚度需要再厚一些,最好采用负胶
5楼2013-08-22 12:06:36
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