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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 烘烤后lift-off问题
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lyln

铜虫 (小有名气)

[求助] 烘烤后lift-off问题

本人新做工艺，用的是Si基，光刻后再蒸发金。由于初做工艺不懂，光刻时坚膜了，现在用丙酮lift-off，很难剥离。大家有什么好的解决办法呢？非常感谢！
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@静静一yi

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最近很彷徨
1楼 2013-08-22 10:41:31
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qingpingzi

新虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

引用回帖:
3楼: Originally posted by lyln at 2013-08-22 12:01:15
光刻胶3um,金2um.
该工艺前面已经花了2个多月了，重做谈何容易...

蒸发2um？我觉得即使超声也几乎不太可能了
可以重做lift-off这一步，把金腐蚀掉，重新光刻，光刻胶厚度需要再厚一些，最好采用负胶
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5楼2013-08-22 12:06:36
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qingpingzi

新虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
光刻胶有多厚？金有多厚？
试试超声吧，如果不行就只能重新做了。
坚膜了，光刻胶边缘会有些坍塌，金属没有完全隔离开，是很难lift-off了。
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2楼2013-08-22 11:48:41
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lyln

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by qingpingzi at 2013-08-22 11:48:41
光刻胶有多厚？金有多厚？
试试超声吧，如果不行就只能重新做了。
坚膜了，光刻胶边缘会有些坍塌，金属没有完全隔离开，是很难lift-off了。

光刻胶3um,金2um.
该工艺前面已经花了2个多月了，重做谈何容易
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最近很彷徨
3楼2013-08-22 12:01:15
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lyln

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by qingpingzi at 2013-08-22 11:48:41
光刻胶有多厚？金有多厚？
试试超声吧，如果不行就只能重新做了。
坚膜了，光刻胶边缘会有些坍塌，金属没有完全隔离开，是很难lift-off了。

大侠，用浓H2SO4+H2O2可以吗？
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最近很彷徨
4楼2013-08-22 12:05:40
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