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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » 单晶硅基片经过高温加热表面会不会变得粗糙
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zvs1988

铁杆木虫 (著名写手)

BOSS

[交流] 单晶硅基片经过高温加热表面会不会变得粗糙 已有3人参与

如题，抛过光的单晶硅基片经过高温600度加热晶粒是否会继续生长，表面会不会变得粗糙

[ Last edited by zvs1988 on 2013-8-16 at 10:12 ]
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@静静一yi

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何必看破
1楼 2013-08-16 10:09:52
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zvs1988

铁杆木虫 (著名写手)

BOSS
引用回帖:
3楼: Originally posted by yswyx at 2013-08-16 17:37:55
不会变粗糙，600度对于硅来说不算高温。
更高温度下，生长氧化层后，粗糙度才会有很小的变化。
为什么要问这个问题？单抛硅片的粗糙度差别还是挺大的。

谢谢你  问这个问题是因为要在600度那样做很平的薄膜，想把各个影响薄膜质量的因素都考虑进去  你这样一说我放心了
你那头像是ALD吧

[ Last edited by zvs1988 on 2013-8-18 at 10:15 ]
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何必看破
4楼2013-08-18 10:03:55
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yswyx

专家顾问 (著名写手)
★ ★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
nofrunolif: 金币+1, 欢迎来功材版交流 2013-08-16 22:02:37
不会变粗糙，600度对于硅来说不算高温。
更高温度下，生长氧化层后，粗糙度才会有很小的变化。
为什么要问这个问题？单抛硅片的粗糙度差别还是挺大的。
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3楼2013-08-16 17:37:55
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yswyx

专家顾问 (著名写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
引用回帖:
4楼: Originally posted by zvs1988 at 2013-08-18 10:03:55
谢谢你  问这个问题是因为要在600度那样做很平的薄膜，想把各个影响薄膜质量的因素都考虑进去  你这样一说我放心了
你那头像是ALD吧
...

如果是这样的话，你选择硅片就要小心了，市面上有些企业很不负责任，指标乱标的。比如，有些标Ra<0.5nm，除非是超平片，否则是不可能达到的，国内的正规企业基本上在Ra<1nm左右，浙江的没谱。
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5楼2013-08-18 13:41:22
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yswyx

专家顾问 (著名写手)
引用回帖:
4楼: Originally posted by zvs1988 at 2013-08-18 10:03:55
谢谢你  问这个问题是因为要在600度那样做很平的薄膜，想把各个影响薄膜质量的因素都考虑进去  你这样一说我放心了
你那头像是ALD吧
...

我那个机器是键合机
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6楼2013-08-18 13:41:35
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