24小时热门版块排行榜

返回列表

当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖

王全龙ciomp

木虫 (著名写手)

应助: 3 (幼儿园)
金币: 7044.7
散金: 41
红花: 1
帖子: 1597
在线: 247.1小时
虫号: 2064097
注册: 2012-10-16
性别: GG
专业: 光学和光电子学

[求助] 求助湿法腐蚀二氧化硅边缘不光滑求大家分析下原因有图

主要工艺：1、清洗硅片。 2、120度2min烘干。 3、涂HMDS 3000rpm 40s。 4、匀胶 AZ701 3500rpm 50s （1um左右）。5、前烘95度1min热板。6、曝光 EVG620。7、显影 AZ300mif 浸泡在烧杯里。8、坚膜110度2min。9、HF缓冲液腐蚀速率大约80nm/min 腐蚀20多分钟。腐蚀完结果如图一个直径200um圆盘边缘总是不光滑有沟槽，该怎么办大家帮我想想办法，先谢谢了。

腐蚀完14.jpg

回复此楼

» 猜你喜欢

请问对标matlab的开源软件octave的网站https://octave.org为什么打不开？已经有0人回复
无机化学论文润色/翻译怎么收费? 已经有295人回复

1楼 2013-06-25 21:27:42

已阅回复此楼关注TA 给TA发消息送TA红花 TA的回帖

yswyx

专家顾问 (著名写手)

专家经验: +651
MN-EPI: 8
应助: 807 (博后)
贵宾: 0.204
金币: 2618.1
散金: 6018
红花: 112
帖子: 2705
在线: 577.8小时
虫号: 446878
注册: 2007-10-30
性别: GG
专业: 半导体微纳机电器件与系统
管辖: 微米和纳米

【答案】应助回帖

引用回帖:

15楼: Originally posted by 王全龙ciomp at 2013-07-02 21:40:06
嗯，谢谢您的解答。我试一下干法刻蚀，我对尺寸和侧壁垂直性要求不高，不过对侧壁粗糙度要求非常高要到达几纳米甚至零点几纳米才可以，我这个是用来做光学谐振腔的越光滑光散射损耗越小。我也做过4620边缘一直做不 ...

硅片表面的粗糙度，一般在1nm左右，你侧壁想要零点几纳米，那是不可能的，几个纳米都危险。