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王全龙ciomp木虫 (著名写手)
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[求助]
求助 湿法腐蚀二氧化硅 边缘不光滑 求大家分析下原因 有图
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主要工艺：1、清洗硅片。 2、120度2min烘干。 3、涂HMDS 3000rpm 40s。 4、匀胶 AZ701 3500rpm 50s （1um左右）。5、前烘95度1min热板。6、曝光 EVG620。7、显影 AZ300mif 浸泡在烧杯里 。8、坚膜110度2min。9、HF缓冲液腐蚀 速率大约80nm/min 腐蚀20多分钟。腐蚀完结果如图一个直径200um圆盘 边缘总是不光滑有沟槽，该怎么办大家帮我想想办法，先谢谢了。 腐蚀完14.jpg |
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王全龙ciomp
木虫 (著名写手)
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3楼2013-06-27 21:23:24
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2楼2013-06-26 23:23:24
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4楼2013-06-27 23:03:13
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5楼2013-06-28 00:20:44
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