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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 金属 » 表面处理 » 关于FIB（聚焦离子束）和离子注入
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kayking0903

至尊木虫 (正式写手)

[交流] 关于FIB（聚焦离子束）和离子注入

FIB和离子注入是不是一回事？对薄膜材料表面进行离子轰击可不可以打出些缺陷 或者对材料晶体结构有影响？
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1楼 2013-06-25 14:37:51
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匿名


★
kayking0903(金币+1): 谢谢参与
本帖仅楼主可见
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4楼2013-06-25 19:55:33
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kayking0903

至尊木虫 (正式写手)
引用回帖:
4楼: Originally posted by jjwang at 2013-06-25 19:55:33
在我的理解中，这两个差的远了吧，一个是切割制备SEM,TEM样品。  离子注入可以用于表面改性，对于材料晶体结构的影响，要看注入的能量大小。

因为我看了他们的一些参数，几乎都一样，区别就是FIB大部分是用Ga+轰击，离子注入的话就有更多选择了，各种元素
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5楼2013-06-25 22:16:50
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macroH

银虫 (正式写手)
★
kayking0903(金币+1): 谢谢参与
同专门的的离子注入不同，FIB因为使用Ga+源，在使用过程中不可避免的会将Ga+注入到你切割和观察的样品的表面。所以，会带来注入效应。同时，因为FIB的离子源具有一定能量，所以会带来一定损坏，比如将表层的晶体打成非晶。但是这个是有办法避免和改善的。
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7楼2013-12-16 13:29:08
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笼中鸟Q

木虫 (正式写手)
★
kayking0903(金币+1): 谢谢参与
不知道楼主现在对这个认识的怎么样，我刚开始接触，对这个也不太懂。用FIB，表面都被轰击走了一层，质量损失比较严重。能不能劳烦告诉我一下，这两个的不同点和相同点？
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8楼2014-04-01 15:19:43
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