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| To survey the deposition thickness of the composite film, in this article, a composite film composed of metallic copper and graphite was prepared on the substrate of the common glass by a direct current sputtering method. The effect of sputtering technological conditions on the thickness of the composite film was investigated through adjusting a series of technological parameters including the height of the substrate platform, the pressure, current and voltage of sputtering. The thickness of the film prepared by sputtering method was determined with a film thickness tester. The optimal technological conditions of preparing the composite film composed of metallic copper and graphite was systematically discussed as well. |

2Â¥2013-06-07 13:37:29
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The paper is to investigate metallic Cu and graphite composite film deposited onto the commercial glass substrates by DC sputtering. The effects of sputtering parameters, such as pressure, current, voltage and substrate-target distance et al, on the thickness of comosite films were discussed. the thickness of deposited thin films were measured by stepper(Â¥Ö÷ÐèҪ˵Ã÷̨½×ÒǵÄÐͺţ©¡£The optimized growth conditions of Cu/graphite composite films were systematically discussed. Â¥Ö÷ÕªÒªµÄÖÐÎÄ»¹ÐèÒª¾«Á¶£¬ÓÐЩ¾ä×Ó²»ÊǺÜÄܶÁ¶®¡£ |
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