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我的芝麻木虫 (小有名气)
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用BOE腐蚀氧化硅，如何降低边缘粗糙度？
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用BOE腐蚀氧化硅，如何降低边缘粗糙度？ 氧化层厚度11um，正性光刻胶AZ5214做掩摸，胶厚约2um，用的BOE是5:1的，腐蚀时间2小时，所得腐蚀边缘有很多沟壑和凹坑；另外，试验7um厚的4620胶，出现半圆形缺陷。请各位帮忙分析下这些都是什么原因造成的？该如何避免？新虫发帖，金币不多，望前辈们给予鼓励  5214-1.jpg  5214-2.jpg  5214-3.jpg  4620.jpg  5214-4.jpg  5214-5.jpg [ Last edited by 我的芝麻 on 2013-6-3 at 11:04 ] |
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我的芝麻
木虫 (小有名气)
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- 性别: GG
- 专业: 半导体微纳机电器件与系统
3楼2013-06-04 20:15:37