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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 综合其他 » 求助！合成材料时CVD对真空系统的要求 用过CVD的大神来
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zhte-8936

金虫 (正式写手)

[求助] 求助！合成材料时CVD对真空系统的要求 用过CVD的大神来

因为实验室要买套CVD，现在不确定应该选用低真空设备还是高真空设备，二者价钱上差了七八万。低真空设备实际只能抽到2到5Pa，高真空设备能抽到0.001到0.01Pa。因为反应要在1000度气氛（氨气氢气之类的）下进行，痕量氧气对材料影响会很大，因此想知道低真空设备能否满足要求。谢谢大家！
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1楼 2013-05-14 19:54:52
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zhte-8936

金虫 (正式写手)
引用回帖:
5楼: Originally posted by hhccbb002 at 2013-05-15 08:21:53
我是专做CVD纳米材料研究的

大哥  低真空系统能否满足你做材料的要求  举个例子 之前有人做氨气处理，需要在八九百度进行，如果真空抽的不到位总是有残留空气，那么通入氨气的时候仍然会有空气，那样就会有影响  你们用的是什么真空系统呢
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6楼2013-05-15 10:14:04
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gxytju2008

专家顾问 (文坛精英)

【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与，应助指数 +1
zhte-8936: 金币+2, ★有帮助 2013-05-14 21:23:43
估计要低真空的话得重复冲放气体很多次了，才能保证氧量，几个pa已经算不低了
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2楼2013-05-14 20:03:12
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银虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
我也想知道这个问题~  同求助
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人无远虑，必有近忧。
3楼2013-05-14 20:11:48
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zhte-8936

金虫 (正式写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by gxytju2008 at 2013-05-14 20:03:12
估计要低真空的话得重复冲放气体很多次了，才能保证氧量，几个pa已经算不低了

充放气体多次肯定是必要的  就是不知道能不能抽干净
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4楼2013-05-14 20:21:37
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