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为什么不能用CF4气体做Al膜的反应离子刻蚀
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曾经听说氟化物与Al反应生成的AlF3是一种难挥发的物质~~ 之前在做Al的反应离子刻蚀的时候，不小心用成了CF4气体，接下来用Ar+刻蚀Al一点效果都没有了，请问为什么会这样哩？~请各位大神赐教 |
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2楼2019-08-16 07:58:17