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光刻胶烘烤工艺
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| 请问在光刻胶烘烤过程中是把片子直接放在热板上好还是与热板有一定的距离好？这两种烘烤方法各有什么优缺点？网上搜索了下有说直接放在热板上的也有说要与热板有一定的距离。望业内人士指点，谢谢 |
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 光刻工艺 |
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6楼2014-11-05 15:40:31
Jackcd12
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2楼2013-03-27 16:22:58
junyao_0001
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3楼2013-03-27 16:30:40
yswyx 
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【答案】应助回帖
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感谢参与，应助指数 +1
yanhualover: MN-EPI+1, 全面解释几种烘烤方式 2013-03-27 20:23:24
chc33: 金币+20, ★★★★★最佳答案 2013-03-29 18:47:40
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yanhualover: MN-EPI+1, 全面解释几种烘烤方式 2013-03-27 20:23:24
chc33: 金币+20, ★★★★★最佳答案 2013-03-29 18:47:40
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这个说起来其实很复杂。一般来说，要看你的光刻胶是厚胶还是薄胶。 对于普通薄胶而言，热板烘烤是否有间隙是区别不大的，只是设定温度有所不同。因为有了间隙以后，硅片上的温度会偏离热板的设定温度，所以热板要设定较高的温度。但是薄胶一般对温度敏感性高，尤其是高精度的光刻胶，所以基本采用接触式的烘烤方式。 对于厚胶而言，有间隙的烘烤是有一定好处的。因为传热的速率会比较慢，光刻胶受热升温会比较缓慢，光刻胶烘干后应力会小，对于光刻显影后图形结构的机械性能有很好的帮助。但是有间隙的烘烤要求热板的lift pin具有设定高度的功能，同时要求环境稳定。一般实验室没有这个条件。 另外还有几个方面的因素。有些时候片子会翘，热板无法牢固的将片子吸平，所以需要有间隙，达到均匀的目的。还有些热板表面不平整，或者真空槽道太宽，lift pin太大，都会影响烘烤均匀性，这时候可以考虑有间隙的烘烤。而对于像PEB这种对温度非常敏感的烘烤过程，间隙式的烘烤方式是不赞成的，因为间歇式的温度稳定性不如接触式的。 另外，在有热板的情况下，不要使用烘箱来做烘烤。 1. 热板的热均匀性远好于烘箱，烘箱的热分布还是比较差的。 2. 烘箱一般要通风，很脏，即使真空烘箱也无法避免。 3. 烘箱是从外部对光刻胶加热，容易形成硬壳，导致溶剂不易挥发，对厚胶尤其有害，应力太大。 4. 烘箱烘烤时间长。 |
4楼2013-03-27 20:00:27
