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muxinzi

银虫 (小有名气)

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[交流] 关于看关于AAO制备的文献中遇到的问题

刚开始接触AAO的制备问题，在看文献的过程中遇到一些问题，希望能得到解答。 1.通过二次阳极氧化的方法制备纳米多孔阳极氧化铝，第一次阳极氧化处理后的腐蚀氧化层，我看的一篇文献中这样写道：The formed aluminium oxide was removed by chemical etching in a mixture of 6 wt.% H3PO4and 1.8 wt.% H2CrO4 at 60◦C. The duration of oxide removal was 10 min for a range of anodizing potential
between 15 and 19 V. For the higher cell potential than 19 V the duration of oxide removal was extended to 15 min.
哪位大虾可以解释一下为什么化学腐蚀的方法里还要加电压？还是说一次氧化层的腐蚀就是应该加电压的？因为只有改篇文献提到这个方面，我表示很费解。
2. 6 wt.% H3PO4and 1.8 wt.% H2CrO4，配比是怎样的？所有文献中只提到量不同质量分数的酸，却没有比例啊
3.还有就是电解抛光后要用去离子水清洗么？

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1楼 2013-03-01 11:45:49

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liushumn

木虫 (小有名气)

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muxinzi: 金币+1 2013-06-20 09:07:28

1 化学腐蚀并且加电压应该是为了加速氧化膜的溶解吧该文献只用了十分钟溶解时间。一般正常的两步法中第一步的氧化时间一般在十几个小时以上，溶解第一层氧化膜时通常都仅仅只是化学腐蚀，你这个我也是第一次看到。
2 我通常配比该溶膜液时，一般都是使用个大概的范围，没有那么具体过。像楼主提到的溶液配比，应该是整个溶膜液中含有质量分数为6%纯H3PO4, 1.8%纯H2CrO4。
3 抛光后应该用大量的自来水将表面的高氯酸冲洗掉，然后用去离子水细心冲洗。

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12楼2013-03-06 09:48:06

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arthurwang1

银虫 (初入文坛)

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muxinzi: 金币+1 2013-06-20 09:07:59

我感觉所加电压不是指的去除氧化膜时的电压，而是anodizing potential，就是阳极氧化电压而已，所说时间不一样就是说对于氧化电压不一样，所需相同条件下的腐蚀时间也不一样，而且所加电压越高，所需的腐蚀时间越长，他的理由也许是电压越高，氧化膜的生长速率要更快，所以去除时间要延长才能更彻底。

另外确实有一篇Jacs利用电解，不只是去除氧化膜，更牛B的是竟然获得了氧化铝通孔。 Zhao, S.; Roberge, H.; Yelon, A.; Veres, T. J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 12352–12353.

看的不是很多，略知一二。见笑

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13楼2013-03-06 21:28:44

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