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muxinzi

银虫 (小有名气)


[交流] 关于看关于AAO制备的文献中遇到的问题

刚开始接触AAO的制备问题,在看文献的过程中遇到一些问题,希望能得到解答。 1.通过二次阳极氧化的方法制备纳米多孔阳极氧化铝,第一次阳极氧化处理后的腐蚀氧化层,我看的一篇文献中这样写道:The formed aluminium oxide was removed by chemical etching in a mixture of  6 wt.% H3PO4and 1.8 wt.% H2CrO4 at 60◦C. The duration of oxide removal was 10 min for a range of anodizing potential
between 15 and 19 V. For the higher cell potential than 19 V the duration of oxide removal was extended to 15 min.
哪位大虾可以解释一下为什么化学腐蚀的方法里还要加电压?还是说一次氧化层的腐蚀就是应该加电压的?因为只有改篇文献提到这个方面,我表示很费解。
2. 6 wt.% H3PO4and 1.8 wt.% H2CrO4,配比是怎样的?所有文献中只提到量不同质量分数的酸,却没有比例啊
3.还有就是电解抛光后要用去离子水清洗么?
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fhpku

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muxinzi: 金币+1 2013-06-20 09:05:20
1,原文是说对15-19伏电压下氧化得到的薄膜溶解10分钟,19伏以上的增加到15分钟。根据俺的经验,时间再长点也没什么
2,6%磷酸,1。8铬酸,剩下是水
3,一般要洗
看了本贴,想起刚上研究生的时候每天做AAO的时光,呵呵。年轻人加油吧。
14楼2013-03-07 21:55:50
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liushumn

木虫 (小有名气)


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muxinzi: 金币+1 2013-06-20 09:07:28
1 化学腐蚀并且加电压 应该是为了加速氧化膜的溶解吧 该文献只用了十分钟溶解时间。一般正常的两步法中第一步的氧化时间一般在十几个小时以上,溶解第一层氧化膜时通常都仅仅只是化学腐蚀,你这个我也是第一次看到。
2 我通常配比该溶膜液时,一般都是使用个大概的范围,没有那么具体过。像楼主提到的溶液配比,应该是整个溶膜液中含有质量分数为6%纯H3PO4, 1.8%纯H2CrO4。
3 抛光后应该用大量的自来水将表面的高氯酸冲洗掉,然后用去离子水细心冲洗。
12楼2013-03-06 09:48:06
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arthurwang1

银虫 (初入文坛)


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muxinzi: 金币+1 2013-06-20 09:07:59
我感觉所加电压不是指的去除氧化膜时的电压,而是anodizing potential,就是阳极氧化电压而已,所说时间不一样就是说对于氧化电压不一样,所需相同条件下的腐蚀时间也不一样,而且所加电压越高,所需的腐蚀时间越长,他的理由也许是电压越高,氧化膜的生长速率要更快,所以去除时间要延长才能更彻底。

另外确实有一篇Jacs利用电解,不只是去除氧化膜,更牛B的是竟然获得了氧化铝通孔。 Zhao, S.; Roberge, H.; Yelon, A.; Veres, T. J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 12352–12353.

看的不是很多,略知一二。见笑
13楼2013-03-06 21:28:44
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