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关于看关于AAO制备的文献中遇到的问题
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刚开始接触AAO的制备问题，在看文献的过程中遇到一些问题，希望能得到解答。 1.通过二次阳极氧化的方法制备纳米多孔阳极氧化铝，第一次阳极氧化处理后的腐蚀氧化层，我看的一篇文献中这样写道：The formed aluminium oxide was removed by chemical etching in a mixture of 6 wt.% H3PO4and 1.8 wt.% H2CrO4 at 60◦C. The duration of oxide removal was 10 min for a range of anodizing potential between 15 and 19 V. For the higher cell potential than 19 V the duration of oxide removal was extended to 15 min. 哪位大虾可以解释一下为什么化学腐蚀的方法里还要加电压？还是说一次氧化层的腐蚀就是应该加电压的？因为只有改篇文献提到这个方面，我表示很费解。 2. 6 wt.% H3PO4and 1.8 wt.% H2CrO4，配比是怎样的？所有文献中只提到量不同质量分数的酸，却没有比例啊 3.还有就是电解抛光后要用去离子水清洗么？ |
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muxinzi: 金币+1 2013-06-20 09:07:59
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我感觉所加电压不是指的去除氧化膜时的电压，而是anodizing potential，就是阳极氧化电压而已，所说时间不一样就是说对于氧化电压不一样，所需相同条件下的腐蚀时间也不一样，而且所加电压越高，所需的腐蚀时间越长，他的理由也许是电压越高，氧化膜的生长速率要更快，所以去除时间要延长才能更彻底。 另外确实有一篇Jacs利用电解，不只是去除氧化膜，更牛B的是竟然获得了氧化铝通孔。 Zhao, S.; Roberge, H.; Yelon, A.; Veres, T. J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 12352–12353. 看的不是很多，略知一二。见笑 |
13楼2013-03-06 21:28:44
12楼2013-03-06 09:48:06
14楼2013-03-07 21:55:50