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硬模板去除过程引起的目标产物的损失甚至消失问题
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敬天爱人
金虫
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虫号: 1823567
[交流]
硬模板去除过程引起的目标产物的损失甚至消失问题
通过硅基硬模板合成了一种目标介孔金属氧化物,去除模板的过程用HF(NaOH对该氧化物溶解性更大),但是HF对该金属氧化物存在一定的溶解性,自己调试过不同的HF浓度,当浓度在4wt%时,可有大量的残留物存在,经元素分析里面的硅基分子筛并没有完全除去,增加到10wt%则导致了目标氧化物的完全消失,中间的浓度自己也调试过不是去除不掉模板就是完全没有了目标产物,想请教一下大家有没有碰到类似的问题,大家是如何处理的?还有就是通过硬模板法来辅助合成该氧化物这条路通不通啊,是不是实验思路有问题啊?
希望大家不吝赐教,小弟当不胜感激,多谢,多谢!!
[
Last edited by 敬天爱人 on 2013-2-28 at 14:57
]
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2013-02-28 10:02:22
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michaelwng
铁杆木虫
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★ ★
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cxqtitan: 金币+1, 谢谢分享
2013-03-02 12:33:09
使用氨水等其它碱?或者使用低浓度HF但增大溶液与处理试样的比例、延长处理时间?反应的温度也是需要考虑的
[
Last edited by michaelwng on 2013-3-2 at 09:15
]
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15楼
2013-03-02 09:14:36
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xhtangxh
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★
敬天爱人(金币+1): 谢谢参与
硅基硬模板是Si还是SiO2?如果金属氧化物不溶于热碱,可以用NaOH热溶液处理。
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2楼
2013-02-28 11:55:24
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userhung
禁虫
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★
敬天爱人(金币+1): 谢谢参与
使用非硅基得不好吗?这儿有份文献看看吧~~~~~~~~~~
http://www.cnki.com.cn/Article/CJFDTotal-WOLF201110012.htm
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7楼
2013-02-28 14:30:14
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焰若轩
木虫
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★
敬天爱人(金币+1): 谢谢参与
开创软模板,那你更厉害啊
[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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14楼
2013-03-02 00:16:12
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tangbohejin
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2013-02-28 13:25
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