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硬模板去除过程引起的目标产物的损失甚至消失问题
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通过硅基硬模板合成了一种目标介孔金属氧化物，去除模板的过程用HF（NaOH对该氧化物溶解性更大），但是HF对该金属氧化物存在一定的溶解性，自己调试过不同的HF浓度，当浓度在4wt%时，可有大量的残留物存在，经元素分析里面的硅基分子筛并没有完全除去，增加到10wt%则导致了目标氧化物的完全消失，中间的浓度自己也调试过不是去除不掉模板就是完全没有了目标产物，想请教一下大家有没有碰到类似的问题，大家是如何处理的？还有就是通过硬模板法来辅助合成该氧化物这条路通不通啊，是不是实验思路有问题啊？ 希望大家不吝赐教，小弟当不胜感激，多谢，多谢！！  [ Last edited by 敬天爱人 on 2013-2-28 at 14:57 ] |
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2楼2013-02-28 11:55:24
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使用非硅基得不好吗？这儿有份文献看看吧~~~~~~~~~~ http://www.cnki.com.cn/Article/CJFDTotal-WOLF201110012.htm |
7楼2013-02-28 14:30:14
11楼2013-02-28 15:44:06
14楼2013-03-02 00:16:12
15楼2013-03-02 09:14:36
16楼2013-03-02 14:58:37
17楼2013-03-02 15:33:56
18楼2013-03-02 17:58:09
22楼2013-03-02 19:47:02
简单回复
xiejf3楼
2013-02-28 12:23
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tangbohejin25楼
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yingying33326楼
2013-03-02 19:55
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