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XPS测试氧化处理后的Ti-6Al-4V碳含量异常
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bluethere
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专业: 半导体材料
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]
XPS测试氧化处理后的Ti-6Al-4V碳含量异常
最近用XPS测试了三组ti-6al-4V样品,分别是抛光,双氧水浸泡(24h)和热氧化处理的。但是测试结果显示碳含量分别为37.16, 39.52, 53.17。 我的反应前处理为:抛光至1um,然后用丙酮超声清洗15min,然后再用蒸馏水超声清洗15min。测试前也用同样的方法清洗。但同类文献中一般在20-30%左右。
AFM测试的结果也比同类文献中偏小。抛光组的Ra只有3nm,双氧水处理的Ra为30nm左右。
不知为什么会出现这么严重的污染。请各位前辈指教。
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1楼
2013-02-20 02:00:24
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bluethere
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专业: 半导体材料
引用回帖:
7楼
:
Originally posted by
plasma1953
at 2013-02-22 10:39:05
偏差是正常的,正负0.3都是正常误差。...
好的,感谢指点!
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8楼
2013-02-23 13:45:26
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plasma1953
木虫
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专业: 金属材料表面科学与工程
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红舟流星: 金币+1, 欢迎来到生物功能材料板块应助交流
2013-02-20 10:55:35
bluethere: 金币+10
2013-02-21 13:12:23
XPS是用来检测元素价态的,而其中碳峰用来矫正谱线峰位(峰值为284.6),不用太纠结碳含量的。而且XPS对于O元素之前的元素量是测不准的,为半定量分析,你所谓的37.16本身也是不准确的。
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bluethere
2楼
2013-02-20 08:20:08
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fuzq1970
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专业: 金属材料表面科学与工程
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2013-02-20 23:13:29
bluethere: 金币+3
2013-02-21 13:13:36
如果你用的XPS经常分析有机物,也有可能是由于仪器污染造成的
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3楼
2013-02-20 16:07:59
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blackdust
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fool_proof: 金币+1, 感谢回帖应助,欢迎常来生物材料板块交流~
2013-02-21 12:38:24
bluethere: 金币+3
2013-02-21 13:13:25
这是普遍存在的吸附现象。只要露置在空气中,就会有“污染”碳吸附。
如果氧化层厚度有几十nm,可以在测试前,用XPS仪溅射掉表面一层(几nm厚度)。
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4楼
2013-02-21 11:50:55
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