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溅射仪工作气体氩气+???氢化
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我用溅射仪长Mn/SiC薄膜,工作气体是氩气,但是我想改变一下气体对其薄膜的结构,来氢化一下,看看是否起作用。看过文献上有用Ar+H2,Ar+CH4的,但是,不是用的溅射仪,配比也不知道多少,混合气体有什么要求吗?但是安全第一,这种混合气体不会爆炸吧?有人做过吗?感谢给点意见哦!!急急急…… |
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