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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 离子注入后的印记
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真空涨落

木虫 (小有名气)

[交流] 离子注入后的印记

半导体硅的器件在离子注入硼后产生印记，退火后也不消失。但有时却没有印记。注入前后都腐蚀过二氧化硅。
请问印记是怎么产生的？

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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1楼 2012-10-06 11:10:36
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真空涨落

木虫 (小有名气)
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4?: Originally posted by highpy at 2012-10-06 16:14:38
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5楼2012-10-06 20:48:09
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blackdogzmz

木虫 (职业作家)
★
真空涨落: 金币+1, 谢谢顶贴 2012-10-06 20:46:17
不会....　顶一下让别人来答吧....
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2楼2012-10-06 11:51:04
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highpy

木虫 (知名作家)
★ ★ ★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
真空涨落: 金币+2, 谢谢回帖 2012-10-06 20:48:22
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4楼2012-10-06 16:14:38
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highpy

木虫 (知名作家)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
我觀察到過二氧化硅注入之後也有印記的，
應該是材料光學性質發生了變化，
你是的這個染色作用可能性很小，
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6楼2012-10-06 22:43:18
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